硅晶電池片反射率儀

光纖光譜儀,積分球,均勻光源,太赫茲系統(tǒng)應(yīng)用專家
光譜儀
>>
光譜儀系統(tǒng)
>>
激光器
>>
激光測量
>>
寬帶光源
>>
LED和影像測量
>>
光譜儀附件
>>
太赫茲系統(tǒng)
>>
濾光片
 濾光片
石墨烯納米材料
 石墨烯納米材料
 

 

R9000硅晶電池片反射率儀
太陽能領(lǐng)域全自動兩維掃描反射率儀

通過反射率測量進行絨化控制
通過顏色和厚度測量進行減反射膜控制

硅晶電池片反射率儀

 

產(chǎn)品特點:

  • 膜層反射率、膜厚和顏色的離線測量
    用于研發(fā),生產(chǎn)過程對鍍膜工藝的質(zhì)量控制
    設(shè)計人性化
    精確,重復(fù)性好
    性價比高
    具有全部知識產(chǎn)權(quán),定制設(shè)計平臺好
    檢測速度快,檢測工序簡單

 

開機無需預(yù)熱;測試同一塊樣品,節(jié)約工人時間50%以上;

連續(xù)測試樣品,節(jié)約工人時間80%以上。

 

R9000系列設(shè)計精度更高,樣品更加貼近積分球,測量的反射率更加準確。

硅晶電池片反射率儀

小提示:按照國際上通行的光譜測量標準(CIE),漫反射樣品的反射率測量需要使用積分球。因此,要獲得電池片絨面反射率的準確數(shù)據(jù),需要使用積分球。積分球在使用中要求樣品盡量貼近開口。樣品離積分球開口越近,積分球收集到的光越多,反射率測量越準確。

高性價比和售后服務(wù)

同樣價格更多實用配置和功能。
每臺儀器都選用高質(zhì)量零件,零件全檢,系統(tǒng)出場前必須全部通過測試。
廠家隨同儀器提供完整的技術(shù)資料和軟件。
免費培訓(xùn)用戶技術(shù)人員2人,并進行操作演示、技術(shù)咨詢及數(shù)據(jù)處理等培訓(xùn)。
維修響應(yīng)時間:賣方接到買方的維修通知后24-48小時迅速響應(yīng)。
免費質(zhì)保期內(nèi)賣方負責(zé)所有因設(shè)備質(zhì)量問題而產(chǎn)生的費用。
質(zhì)保期后的服務(wù)后,提供終身維護服務(wù),只按廠價收取所換的成本費,不收維護費。
國內(nèi)設(shè)有物流中心,免去了購買進口產(chǎn)品不可避免的維修周期長的弊病和高關(guān)稅。
自主研發(fā),具有更大的自主改進和開行性,對不同的客戶要求可以積極有效的響應(yīng)。

 

R9000-2DMA自動圖譜(Mapping)功能

-單塊片子反射率并不均勻,傳統(tǒng)反射率儀器只能測試某一點,多點測試靠人工移動,數(shù)據(jù)沒有可比性。

-R9000 提供全自動多點掃描功能,讓您更準確了解自己的產(chǎn)品情況

硅晶電池片反射率儀

 

R9000-2DMA應(yīng)用

電池片(Cell/module) 減反工藝,優(yōu)化及監(jiān)控包括:
酸制絨工藝; 堿制絨工藝; SiNx 減反膜工藝; 復(fù)合減反膜工藝
EVA封裝工藝; TiO2減反膜工藝; SiO2鈍化工藝; 光伏(絨面)玻璃封裝工藝

裸片和鍍膜片測量裸片和鍍膜片測量:
兩維掃描(Mapping)
快速,操作方便
積分式、非接觸

測量參數(shù):
單點反射率
兩維掃描反射率
電池片不均勻度
膜厚
色度(顏色)

產(chǎn)品組件:
兩維全自動反射率儀R9000-2DMA
標準白參考瓦
標準鏡面反射體
控制軟件Morpho-R9MA
膜厚及色度分析軟件
燈泡

用于檢測所有相關(guān)硅片類型:
單晶硅片(拋光、粗糙、絨化)
多晶硅片(拋光、粗糙、絨化)
硅片尺寸:125x125 / 156x156 mm

 

反射率范圍 0~100%
波長范圍 360~1050nm / 250~1100nm
膜厚范圍 (SiNx) 25~120nm
膜厚范圍 (SiO2) 35~160nm
反射率精度 0.10%
反射率重復(fù)性 +/-0.2 %
膜厚精度 5 nm
顏色測量 Lab / XYZ / xyz
測量光斑直徑 6 mm
測量速度 2秒/點
測量模式 積分球

 

現(xiàn)場使用情況

硅晶電池片反射率儀


玻色智能科技有限公司光譜儀專家
上海玻色智能科技有限公司
上海: (021)3353-0926, 3353-0928   北京: (010)8217-0506
廣州: 139-0221-4841   武漢: 139-1733-4172
全國銷售服務(wù)熱線:4006-171751   Email: info@bosontech.com.cn
m.alharamainfoundation.com    2008-2022 All Rights Reserved!